在芯片制造过程中，多个关键环节都离不开超纯水系统。这些关键环节主要包括：

1. 清洗环节：

     芯片生产中的清洗步骤至关重要，因为它直接关系到芯片表面的洁净度。超纯水系统能够提供高质量的水质，有效去除芯片表面的杂质、微粒和有机物，确保芯片表面的洁净度达到要求。随着芯片制造技术的不断发展，清洗工艺的复杂度也在增加，超纯水系统需要满足更高的水质要求。

     例如，在60～80纳米制程里清洗工艺约有100个步骤，而10～20纳米制程里清洗工艺约有200个以上步骤。工艺制程越高，需要的清洗工艺环节越多，清洗频率也越高。超纯水系统在这些环节中发挥着不可替代的作用。

2. 蚀刻环节：

     蚀刻是芯片制造中的关键步骤之一，用于在芯片上制造特定的结构和图案。超纯水系统制备出的高纯度水质能够更好地满足蚀刻工艺对水质的要求，保证蚀刻的精度和均匀性。在蚀刻过程中，超纯水作为溶剂或稀释剂，能够帮助精确控制蚀刻的深度和形状，从而确保芯片的质量。

3. 镀膜环节：

     在芯片制造过程中，镀膜是一个重要的步骤，用于在芯片表面形成一层或多层薄膜。超纯水系统能够提供稳定的水质，作为镀膜工艺中的一部分，保证镀膜液的均匀性和稳定性，从而提高镀膜的质量和一致性。稳定的镀膜质量对于芯片的性能和可靠性至关重要。

4. 光刻胶去除环节：

     光刻胶是芯片制作过程中的一种重要材料，用于在芯片上形成精确的图案。然而，在图案形成后，光刻胶需要从芯片上去除。这时，超纯水系统便派上了用场。它能够帮助去除光刻胶，同时避免对芯片表面造成损伤。超纯水的高纯度和低离子含量使得它成为去除光刻胶的理想选择。

5. 其他环节：

     除了上述关键环节外，超纯水系统还在其他芯片制作步骤中发挥着作用。例如，在沉积和涂覆过程中，超纯水可以用于调整溶液的浓度和均匀性；在检测环节中，超纯水系统能够提供稳定的水质，保证检测设备的正常运行和检测精度。

     超纯水系统在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色。它贯穿于整个芯片制造流程中，为各个环节提供高质量、高纯度的水质保障，从而确保芯片的质量和性能。随着芯片制造技术的不断发展，对超纯水系统的要求也将不断提高。