在高新科技领域，特别是半导体生产中，超纯水扮演着至关重要的角色。其水质直接影响到半导体产品的良品率和生产效率，因此，满足半导体生产全阶段的超纯水需求，需要采用专业的超纯水工艺。

      一、超纯水工艺概述

超纯水工艺是通过一系列精细的处理步骤，将普通水中的杂质、电解质、有机物、微生物和溶解气体等去除，以达到超纯水的标准。这一过程通常需要经过多步处理，包括预处理、反渗透、电去离子（EDI）、抛光混床等。

      1. 预处理：

      通过多介质过滤、活性炭吸附等手段，去除水中的悬浮物、胶体、有机物等杂质。

      软化处理，降低水中的硬度离子含量。

      2. 反渗透：

      利用反渗透膜的选择透过性，将水中的溶解性盐类、有机物、细菌等大部分去除。

      反渗透膜具有水渗透效果好、离子截留率高、抗污染能力强的特点。

      3. 电去离子（EDI）：

      利用电场作用，使水中的离子通过离子交换膜进行迁移和去除。

      EDI技术可以实现带电荷运行，加快离子迁移速度，提高脱盐率。

      4. 抛光混床：

      作为超纯水设备的末端工艺，进一步去除水中的微量杂质，确保出水水质稳定达标。

      二、高新科技在超纯水工艺

     百惠浦环保作为国内超纯水领域的代表性企业，通过技术研发和工艺创新，成功满足了半导体生产全阶段的超纯水需求。

      1. 先进的制备工艺：

      涵盖了多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除、电渗析、超滤、纳滤、真空脱气塔、膜脱气等超过18项专业处理工艺环节。

      通过8次增压提升，确保产水水质接近绝对纯度，电导率无限接近18.24MΩ的理论极限值。

      2. 一体化智能超纯水系统：

      系统应用场景多元，装备即接即用，具备远程智能运维功能。

      模块化设计使得系统便于移动和快速部署，轻松嵌入各种生产场景。

      智能化运维，自动运行，无人值守，大幅提升了运维效率。

      3. 废水处理和回用水技术：

      采用多级化学混凝、氨氮吹脱和生物处理等多项工艺，高效去除芯片废水中的复杂污染物。

      结合先进的回用水处理技术，实现水资源循环利用，项目水平衡设计使得全厂用水回收率高达90%。

      三、超纯水在半导体生产中的应用

      在半导体生产中，超纯水被广泛应用于晶圆冲洗、化学品稀释等多个关键环节。其水质与半导体的良品率直接相关，因此，对超纯水的质量把控异常严格。

      1. 晶圆冲洗：

      使用超纯水对晶圆进行冲洗，可以去除晶圆表面的杂质和污染物，确保晶圆表面的洁净度。

      2. 化学品稀释：

      在半导体生产中，许多化学品需要使用超纯水进行稀释。超纯水的纯净度可以确保化学品的稀释比例准确，从而提高半导体的生产质量和效率。

       高新科技超纯水工艺在半导体生产全阶段的应用中发挥着至关重要的作用。通过不断的技术研发和工艺创新，可以满足半导体生产对超纯水的高品质需求，推动半导体产业的持续发展和进步。