企业资讯

26
2024-09
edi纯水设备的工作原理

edi纯水设备的工作原理

阴阳离子分离:EDI纯水设备内部设置有阴离子交换膜和阳离子交换膜,分别允许阴离子和阳离子通过。当水通过设备时,水中的阳离子被阴离子交换膜吸附,而阴离子则被阳离子交换膜吸附,从而实现阴阳离子的初步分离。
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23
2024-09
超滤膜过滤设备

超滤膜过滤设备

超滤膜过滤设备以超滤膜为过滤介质,利用膜两侧的压力差为驱动力,实现对原液的净化、分离和浓缩。在超滤过程中,当原液流过膜表面时,超滤膜表面密布的许多细小的微孔只允许水及小分子物质通过而成为透过液,而原液中体积大于膜表面微孔径的物质则被截留在膜的进液侧,成为浓缩液。
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23
2024-09
工业废水回用设备有哪些优缺点

工业废水回用设备有哪些优缺点

工业废水回用设备在节约资源、保护环境、降低企业成本等方面具有显著优势,但也存在初期投资高、技术依赖度高、维护要求高等缺点。企业在选择和使用时应综合考虑自身需求和实际情况,以充分发挥设备的优势并克服其缺点。
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23
2024-09
工业废水回用设备

工业废水回用设备

工业废水回用设备是处理工业废水,并将其转化为可再利用水资源的重要设备。这些设备通常采用多种技术手段,包括膜处理技术、生物处理技术、物理化学处理技术等,以实现对废水的
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18
2024-09
芯片制造过程中有哪些关键环节需要超纯水系统

芯片制造过程中有哪些关键环节需要超纯水系统

芯片生产中的清洗步骤至关重要,因为它直接关系到芯片表面的洁净度。超纯水系统能够提供高质量的水质,有效去除芯片表面的杂质、微粒和有机物,确保芯片表面的洁净度达到要求。随着芯片制造技术的不断发展,清洗工艺的复杂度也在增加,超纯水系统需要满足更高的水质要求。
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18
2024-09
高品质的芯片生产离不开超纯水系统

高品质的芯片生产离不开超纯水系统

高纯度要求:芯片制造过程中,无论是晶圆清洗、光刻、蚀刻、抛光还是封装测试等关键步骤,都对水质有着极高的要求。超纯水系统能够生产出电阻率极高、几乎不含任何杂质、细菌、病毒等的水质,确保芯片制造过程中的每一个环节都不会因为水质问题而受到污染或影响。
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18
2024-09
半导体工厂超纯水设备有哪些优势

半导体工厂超纯水设备有哪些优势

半导体工厂超纯水设备以其高纯度水质、稳定的产水品质、低运行成本和环保性、占地面积小以及广泛的应用领域等优势,在半导体行业中发挥着不可或缺的作用。随着半导体行业的快速发展和对产品质量要求的不断提高,超纯水设备的应用前景将更加广阔。
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11
2024-09
半导体工厂超纯水设备

半导体工厂超纯水设备

半导体工厂超纯水设备是一种专门设计用于去除水中各种杂质,如溶解性固体、有机物、微生物、微粒等,以生产符合半导体生产工艺要求的超纯水的设备。这些设备通常集成了多种水处理技术,以确保最终出水的质量和稳定性...
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